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                KBr压片常见的异常谱带
            
发布者：admin  发布时间：2015-7-14  阅读：10421次

            波数           化合物或结构        来源
 668            CO2               大气中CO2吸收，正或负
 697            聚苯乙烯         磨损的聚苯乙烯瓶子或其他机械处理样品过程中
 719            聚乙烯           实验室中常使用聚乙烯产品，有时候作为污染物出现
 730            聚乙烯           同上
 787            CCl4              使用CCl4后没有处理干净
 794            CCl4              CCl4气体，同上
 823            KNO3            无机硝酸盐与溴化钾反应物
 837            NaNO3          氧化氮与窗片上的水汽生成，光源点燃有时候出现
 980            K2SO4           无机硫酸盐与溴化钾离子交换的反应物
 1110-1053  Si-O               使用玻璃研钵，由玻璃粉末引起的谱带，宽峰
 1110           Me-O             研钵或其它物品的灰尘造成的污染，宽
 1265          Si-CH3           使用硅树脂有此污染
 1365          NaNO3           氧化氮与窗片上的水汽生成，光源点燃有时候出
 1380,1450
 2800-2900   (CH2)n          烃类物质
 1378           NO3-             溴化钾的杂质，与CH3位置相近
 1428           CO32-            溴化钾的碳酸盐，及其它杂质
 1613-1515   ﹥COO-          碱金属卤代盐，溴化钾与羧酸反应生成的羧酸阴离子引起，压片时能产生
 1639           H2O              少量夹带水的吸收
 1764-1696   ＞C=O           药品的瓶盖，涂层，增塑剂等等的污染
 1810           COCl2            氯仿暴露在空气中，或日光氧化生成少量光气的谱带
 1996           BO3-             碱金属卤代盐，NaCl中的偏硼酸离子引起
 2326           CO2              CO2吸收
 2347           CO2              正或负的大气中CO2吸收
 3450           H2O              压片中KBr含的微量水的谱带，宽，常见
 3650           H2O              石英管出现附着水引起的锐谱带
 3704           H2O              近红外区厚吸收池使用四氯化碳或烃类溶剂中非缔合水的-OH吸收，谱带锐
            

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